膜厚測(cè)試儀常用到的測(cè)試方法有哪些?
更新時(shí)間:2020-05-19 點(diǎn)擊次數(shù):1933次
膜厚測(cè)試儀常用到的測(cè)試方法有哪些?
膜厚測(cè)試儀一般要求基材導(dǎo)磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性,則要求與基材的導(dǎo)磁率之差足夠大(如鋼上鍍鎳)。當(dāng)軟芯上繞著線圈的測(cè)頭放在被測(cè)樣本上時(shí),儀器自動(dòng)輸出測(cè)試電流或測(cè)試信號(hào)。早期的產(chǎn)品采用指針式表頭,測(cè)量感應(yīng)電動(dòng)勢(shì)的大小,儀器將該信號(hào)放大后來指示覆層厚度。
如果經(jīng)常跟本測(cè)試儀打交道的朋友們都知道,該儀器是有好幾種測(cè)試方法的,比如有臺(tái)階測(cè)厚方法、熒光測(cè)厚度、金相測(cè)膜厚度、SEM測(cè)膜厚度、XPS深度剖析等等,若大家有想了解更多關(guān)于這些方法詳細(xì)內(nèi)容的,請(qǐng)看下面介紹。
一:臺(tái)階測(cè)厚方法
設(shè)備:臺(tái)階儀
此方法對(duì)厚度的測(cè)量范圍較寬,0.1μm到10μm均能檢測(cè);但對(duì)樣品的要求很高,膜層與基材之間必須有臺(tái)階,且表面光滑。
二:熒光測(cè)厚度
設(shè)備:XRF測(cè)厚儀
此方法適用于測(cè)量厚度>0.01μm的金屬膜層,可同時(shí)測(cè)量多層;在使用膜厚測(cè)試儀測(cè)量前需知道樣品的鍍膜工藝信息(如基材材料、膜層材料及順序);可以實(shí)現(xiàn)無損檢測(cè)(視樣品)。
三:金相測(cè)膜厚度
設(shè)備:金相顯微鏡
此方法適用于測(cè)量厚度>1μm的金屬膜層,可同時(shí)測(cè)量多層;被測(cè)樣品需要經(jīng)垂直于待測(cè)膜層取樣進(jìn)行金相制樣,再在金相顯微鏡下觀察并拍照測(cè)量待測(cè)膜層厚度。
四:SEM測(cè)膜厚度
設(shè)備:為掃描電子顯微鏡(SEM)
此方法測(cè)試范圍寬,適用于測(cè)量厚度0.01μm~1mm的金屬或非金屬膜層;樣品前處理與金相測(cè)厚相同,配有能譜附件(EDS)的SEM設(shè)備可以確定每一層膜層的成分。
五:XPS深度剖析
設(shè)備:X射線光電子能譜儀(XPS)
此方法適用于測(cè)量納米級(jí)厚度的膜層。XPS設(shè)備可以測(cè)試樣品極表面的元素成分(每次測(cè)量的信息深度為5nm左右),并且可以在樣品室內(nèi)直接對(duì)樣品表面進(jìn)行濺射,可以去除厚度(納米級(jí))的表層物質(zhì),膜厚測(cè)試儀的這兩個(gè)功能結(jié)合使用就可以測(cè)量出納米級(jí)膜層的厚度;
例如,樣品表面成分為銠元素,逐步濺射掉表面50nm后發(fā)現(xiàn)成分中開始出現(xiàn)大量的鉑元素,那么可以判斷測(cè)試位置銠膜的厚度約為50nm。