釹鐵硼磁鐵電鍍層分析儀 1.*的EFP算法:多層多元素、各種元素及有機(jī)物,甚至有同種元素在不同層也可測量。 2.上照式設(shè)計(jì):實(shí)現(xiàn)可對超大工件進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測量。 3.自動對焦:高低大小樣品可快速清晰對焦。 4.變焦裝置算法:可對大90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測。 5.小面積測量:小測量面積0.002mm2 6.大行程移動平臺:手動XY滑臺100*
釹鐵硼磁鐵電鍍層分析儀
產(chǎn)品詳情
XTD-200測厚儀,專業(yè)表面處理檢測解決方案:釹鐵硼磁鐵Ni/Cu/Ni/FeAlB電鍍層分析
兩層重復(fù)鎳鍍層厚度分析儀
XTD-200測厚儀,于檢測各種異形件,特別是五金類模具、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。
儀器優(yōu)點(diǎn):
1. 分析精度*
2. 分析范圍廣泛
3. 微區(qū)定位
4. 操作簡單快捷
5. 結(jié)果可靠
6. 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)
XYZ高精密移動裝置:快速定位,手/自動(可選),自動版可實(shí)現(xiàn)編程定位多點(diǎn)自動測試。
軟、硬件雙向操作:人性化設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)軟件,硬件雙向快捷操作。
變焦 對焦:配備高敏感鏡頭,實(shí)現(xiàn)無感對焦,可測各種異形件、超大工件。
性能優(yōu)勢:
1.*的EFP算法:多層多元素、各種元素及有機(jī)物,甚至有同種元素在不同層也可測量。
2.上照式設(shè)計(jì):實(shí)現(xiàn)可對超大工件進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測量。
3.自動對焦:高低大小樣品可快速清晰對焦。
4.變焦裝置算法:可對大90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測。
5.小面積測量:小測量面積0.002mm2
6.大行程移動平臺:手動XY滑臺100*150mm,自動XY平臺200*200mm.
釹鐵硼磁鐵電鍍層分析儀結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì):
一六儀器研制的測厚儀*的光路交換裝置,讓X射線和可見光攝像同一垂直線,達(dá)到視覺與測試定位一體,且X光擴(kuò)散度極??;與EFP軟件配合達(dá)到對焦、變焦雙焦功能,實(shí)現(xiàn)高低、凹凸不平各種形狀樣品的測試;高集成的光路交換裝置與接收器的角度可縮小一倍,可以減少弧度傾斜放樣帶來的誤差,同時(shí)特征X射線可以穿透測試更厚的表層。
EFP算法:
采用Fp算法的后一代全新核心算法--理論Alpha系數(shù)法,基于熒光X射線激發(fā)的基本原理,從理論上計(jì)算出樣品中每個(gè)元素的一次和二次特征X射線的熒光強(qiáng)度,在基于此計(jì)算Lachance綜合校正系數(shù),然后使用這些理論a系數(shù)去校正元素間的吸收增強(qiáng)效應(yīng)。
只需少數(shù)標(biāo)樣來校正儀器因子,可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬以及有機(jī)物層。
儀器型號對比: