全自動(dòng)鍍層測(cè)厚儀、膜厚儀儀器簡(jiǎn)介:XTD-200是一款專用于檢測(cè)各種異形件,特別適用于五金類模具、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。該系列儀器不但可以應(yīng)對(duì)平面、微小樣品的檢測(cè),在面對(duì)凹槽曲面深度0-90mm以內(nèi)的異形件具備巨大的優(yōu)勢(shì);搭載全自動(dòng)可編程移動(dòng)平臺(tái),無(wú)人值守,便可實(shí)現(xiàn)多樣品的自動(dòng)檢測(cè)。被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)
儀器簡(jiǎn)介:
XTD-200是一款專用于檢測(cè)各種異形件,特別適用于五金類模具、衛(wèi)浴產(chǎn)品、線路板以及高精密電子元器件表面處理的成分和厚度分析。
該系列儀器不但可以應(yīng)對(duì)平面、微小樣品的檢測(cè),在面對(duì)凹槽曲面深度0-90mm以內(nèi)的異形件具備巨大的優(yōu)勢(shì);搭載全自動(dòng)可編程移動(dòng)平臺(tái),無(wú)人值守,便可實(shí)現(xiàn)多樣品的自動(dòng)檢測(cè)。
被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來(lái)料檢驗(yàn)和對(duì)生產(chǎn)工藝控制的測(cè)量使用。
全自動(dòng)鍍層測(cè)厚儀、膜厚儀
產(chǎn)品優(yōu)勢(shì):
*的EFP算法:多層多元素、各種元素及有機(jī)物,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測(cè)量
上照式設(shè)計(jì):實(shí)現(xiàn)可對(duì)超大工件進(jìn)行快、準(zhǔn)、穩(wěn)高效率測(cè)量
自動(dòng)對(duì)焦:高低大小樣品可快速清晰對(duì)焦
變焦裝置算法:可對(duì)0-90mm深度的凹槽高低落差件直接檢測(cè)
小面積測(cè)量:最小測(cè)量面積0.002mm2
可編程自動(dòng)位移:選配自動(dòng)平臺(tái),X210*Y230*Z145mm行程內(nèi)無(wú)人值守自動(dòng)測(cè)量
● 自動(dòng)、智能、在線檢測(cè)
自動(dòng):可編程自動(dòng)位移平臺(tái),無(wú)人值守、自動(dòng)檢測(cè)樣品;一次編程便可實(shí)現(xiàn)成百上千個(gè)樣品點(diǎn)的高效檢測(cè)
智能:實(shí)現(xiàn)自動(dòng)AI影像智能尋點(diǎn),編程檔案自動(dòng)匹配測(cè)試位置,在面對(duì)大批同類型樣品檢測(cè)時(shí),具備明顯的優(yōu)勢(shì)
在線:根據(jù)客戶要求可個(gè)性化定制產(chǎn)線在線式檢測(cè),為工業(yè)4.0提供在線檢測(cè)整體解決方案,提高檢測(cè)效率,實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)智能化工廠
全自動(dòng)鍍層測(cè)厚儀、膜厚儀
應(yīng)用領(lǐng)域:
廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、新能源行業(yè)、5G通訊、五金建材、航空航天、環(huán)保行業(yè)、汽車行業(yè)、衛(wèi)浴裝飾、精密電子、電鍍行業(yè)等多種領(lǐng)域。
多元迭代EFP核心算法(號(hào):2017SR567637)
專業(yè)的研發(fā)團(tuán)隊(duì)在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計(jì)算樣品中每個(gè)元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強(qiáng)效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*的光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來(lái)校正儀器因子,可測(cè)試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機(jī)物層的厚度及成分含量。
單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等
多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等
合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等
合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過(guò)EFP算法,在計(jì)算鎳磷鍍層厚度的同時(shí),還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。
重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準(zhǔn)測(cè)量和分析。
如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測(cè)量。
技術(shù)參數(shù):
1. 元素分析范圍:氯(Cl)- 鈾(U)
2. 涂鍍層分析范圍:鋰(Li)- 鈾(U)
3. 厚度檢出限:0.005μm
4. 成分檢出限:1ppm
5. 最小測(cè)量直徑0.05mm(最小測(cè)量面積0.002mm2)
6. 對(duì)焦距離:0-90mm
7. 樣品腔尺寸:530mm*570mm*150mm
8. 儀器尺寸:760mm*550mm*635mm
9. 儀器重量:120KG
選擇一六儀器的四大理由:
1.一機(jī)多用,無(wú)損檢測(cè)
2.最小測(cè)量面積0.002mm2
3.可檢測(cè)凹槽0-90mm的異形件
4.輕元素,重復(fù)鍍層,同種元素不同層亦可檢測(cè)